Développement d'un procédé de retrait de substrat GaSb par gravure plasma. H/F

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Vous aurez à effectuer plusieurs actions : - étude bibliographique de la gravure plasma des matériaux III-Sb. - formation puis utilisation en autonomie de différents équipements en salle blanche (ex: bâti de gravure RIE-ICP, MEB, profilomètre). - mise en place et réalisation d'un plan d'expériences pour l'étude de la gravure du matériau GaSb, puis analyse des résultats. - présentation régulière de l'état d'avancement du stage à l'attention des encadrants.

Au sein du Département PlateFormes Technologiques (DPFT), le Laboratoire d'Intégration Technologique pour la Photonique (LITP) mène des activités dans le domaine de la technologie des composants optroniques et récemment des composants de puissance. Ce laboratoire dispose de moyens technologiques spécifiques en salle blanche nécessaires au traitement d'échantillons jusqu'à des substrats de 150 mm de diamètre ; dans le cadre de développements de filières de procédés innovants sur matériaux II-VI et III-V et III-Nitrure, au SiC, pour des dispositifs de très hautes performances dans les domaines de la détection infrarouge, de l'éclairage, des écrans de visualisation, de la photonique intégrée sur Si et de la conversion d'énergie électrique. Dans le cadre de ses activités dans le domaine de la fabrication de dispositifs à base de semi-conducteurs composés (II-VI, III-V et III-Nitrure), le laboratoire d'Intégration Technologique pour la Photonique (LITP) du Département Plateformes Technologiques (DPFT) du LETI doit développer et renforcer ses filières. Ces activités concernent tous les types de dispositifs optroniques et micro-électroniques. Ces filières adressent entre autres les applications Telecom/Datacom, Lidar, Récepteurs, Display ou composants de puissance et rejoignent des applications systèmes connexes pour des industriels du secteur à des Start-up.

Stage niveau M2. Fort intérêt pour le travail en salle blanche attendu.

Bac+5 - Diplôme École d'ingénieurs

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