Ingénieur-chercheur en développement de procédés gravure et stripping par plasma H/F

Description de l'offre : Vous travaillerez sous la responsabilité du chef de laboratoire journée.  Vous aurez pour missions principales : - La réalisation des opérations technologiques gravure et stripping, qu’il s’agisse de procédés standards ou engineering, et la caractérisation associée,  - De mener un travail de R&D visant au développement et à la fiabilisation de procédés de gravure et de stripping par plasma pour des technologies avancées, - De rendre compte des résultats de développement de gravure sous la forme de rapport techniques aux différentes parties prenantes : management, chef de projet et client interne et/ou externe. - D'assurer la veille technologique du domaine et la valorisation du travail réalisé.

Présentation de l’institut : Dans ce contexte, le Service Patterning du Département des Technologies Silicium doit maintenir un savoir-faire et une expertise technique élevée et constamment s'adapter et apporter des réponses techniques à toutes les sollicitations internes et externes. Le laboratoire Gravure/Stripping développe des procédés de gravure plasma, de stripping et de nettoyage humide post gravure pour répondre aux besoins des technologies 200mm/300mm en développement sur la plateforme Silicium. Le laboratoire gravure/stripping souhaite renforcer son équipe de R&D avec un nouveau collaborateur en CDD pour travailler dans les domaines des procédés de gravure et de stripping par plasma.

Profil du candidat : Pour être éligible, vous devrez être titulaire d’un diplôme d’ingénieur en physique, microélectronique, matériaux. Une première expérience dans le milieu de la R&D est souhaitée. Vous devrez faire preuve d’esprit d’équipe, d’initiative, de rigueur, d’autonomie et d’organisation.

Langues : Anglais Courant