Cadre et contexte: Afin d’atteindre des nœuds technologiques de 10 nm et en deçà, tous les éléments constituant les composants microélectroniques doivent être miniaturisés : grille, zones sources/drains du transistor, espaces entre deux transistors, mais aussi les dimensions du canal de porteurs de charges dont la réduction nécessite l’intégration de films de semi-conducteurs ultra-minces. La réalisation d’un composant représente plusieurs centaines étapes technologiques, dont environ la moitié sont des étapes de nettoyage destinées notamment au retrait de particules de taille nanométrique, génératrices des pertes de rendement des transistors. De nombreuses techniques de nettoyage physico chimiques existent dans l’industrie pour retirer au mieux ces particules : si leur efficacité n’est plus à démontrer, leur compatibilité vis-à-vis des couches ultra minces des futurs transistors pose question et l’endommagement potentiel lié à l’utilisation de techniques de nettoyage physique (sprays, brosses mécaniques) doit être évalué. Travail demandé: L’objectif de ce stage est de développer une méthodologie permettant d’évaluer l’impact de plusieurs techniques de nettoyage physique sur des films minces de silicium. Le sujet s’articulera autour de 2 principaux axes de travail : 1. Mise en place d’un protocole de test adapté sur les différents équipements de traitement chimique disponibles dans la salle blanche du LETI. 2. Identification de techniques de caractérisation permettant de révéler et quantifier les éventuels défauts générés. Vous serez amené(e) à travailler en salle blanche. Vous serez formé(e) sur des équipements de traitement chimique, de type industriels en 300 mm, ainsi que sur des équipements de caractérisation physico-chimiques : mesure de défectivité, AFM, ellipsomètre, … Vous travaillerez tout au long de votre stage, en étroite collaboration avec les équipes procédé et caractérisation du CEA-LETI.
Le Leti, institut de recherche technologique de Cea Tech, a pour mission d'innover et de transférer les innovations à l'industrie. Son cœur de métier réside dans les technologies de la microélectronique, de miniaturisation des composants, d'intégration système, et d'architecture de circuits intégrés, à la base de l'internet des objets, de l'intelligence artificielle, de la réalité augmentée, de la santé connectée. Le Leti façonne des solutions différenciantes, sécurisées et fiables visant à augmenter la compétitivité de ses partenaires industriels par l'innovation technologique. L'institut est localisé à Grenoble avec deux bureaux aux USA et au Japon, et compte 1800 chercheurs.
Vous devrez être autonome et posséder un bon sens de l’organisation. Des comptes rendus réguliers seront attendus afin de suivre au plus près votre avancement. Des compétences en science des matériaux, en chimie et sur des techniques de caractérisation sont attendues. Des connaissances sur la micro-électronique et plus particulièrement sur les techniques de fabrication utilisées dans ce domaine, sont un plus.
Bac+5 - Diplôme École d'ingénieurs
Français Courant,Anglais Courant
Talent impulse, le site d’emploi scientifique et technique de la Direction de la Recherche Technologique du CEA
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