Étude de résines grayscales et optimisation des procédés de lithographie pour des applications optiques sub-microniques

Description de l'offre : La photolithographie grayscale est un procédé utilisé depuis plusieurs dizaines dapos;années pour la réalisation de structures tridimensionnelles sur des substrats semiconducteurs, en particulier dans les domaines de lapos;optique et de lapos;opto-électronique. Cette technologie permet de réaliser des motifs 3D facilement transférables à lapos;industrie, grace à lapos;utilisation dapos;équipements de lithographie. Après avoir atteint une forte expertise sur la réalisation de structures 3D supérieurs au micron grace à lapos;utilisation dapos;équipements dapos;insolation en I-line (365nm), le LETI souhaite développer son expertise grayscale dans lapos;UV profond (248nm, 193nm et 193nm immersion) afin dapos;atteindre des motifs submicroniques avec pour objectif lapos;état de lapos;art mondial. Cette thèse sera consacrée à lapos;amélioration des connaissances physico-chimiques des nouvelles résines grayscales, dans le but dapos;améliorer les performances des procédés de lithographie mais également de prévoir le développement des gravures associées et des nouveaux modèles optiques pour les masques. Vous rejoindrez lapos;équipe du laboratoire de lithographie du CEA-LETI, et serez également amené à échanger avec dapos;autres équipes (gravure, simulation optique). Vous aurez accès aux équipements de pointes installés dans les salles blanches, ainsi quapos;à une plate-forme de nano-caractérisation pour mener à bien ces travaux de thèse dans une forte dynamique expérimentale.

Profil du candidat : Master 2 ou école dapos;ingénieurs en matériaux ou nanotechnologies