Diagnostic des effluents gazeux d'un réacteur de gravure par plasma pour developper des procécés plus éco-responsables en microelectronique

Les gaz fluorés traditionnellement employés, comme le CF4 et le C4F8, ont des potentiels de réchauffement (GWP) extrêmement élevés et une longue durée de vie atmosphérique, participant au changement climatique. L’utilisation de gaz alternatifs à faible GWP, combinée à des systèmes d’abattements des effluents en sortie de réacteur, devrait permettre de concilier performances des procédés de gravure plasma et responsabilité écologique. Dans ce contexte, vous aurez en charge d’analyser et de caractériser par spectrométrie de masse les gaz présents dans un plasma de gravure industriel, et de les comparer à ceux présents à la sortie des pompes du réacteur et du système d’abattement. Les principaux objectifs sont de déterminer le taux de destruction des gaz fluorocarbonés à fort GWP utilisés dans les procédés de gravure au niveau du plasma et des systèmes de pompage et d’abattement ains que de proposer des solutions alternatives et innovantes pour minimiser le rejet des effluents gazeux à fort GWP.