Défi technologique : Nano-caractérisation avancée (en savoir +)
Département : Département des Plateformes Technologiques (LETI)
Laboratoire : Laboratoire Microscopie Mesures et Défectivité
Date de début : 01-10-2022
Localisation : Grenoble
Code CEA : SL-DRT-22-0380
Contact : yoann.blancquaert@cea.fr
L'Overlay (OVL) est un des paramètres clef à suivre au cours de la fabrication de composants de microélectronique. Actuellement, cette grandeur est suivie par des techniques d'imagerie ou par scatterométrie. Pour les technologies les plus avancées - CMOS10nm et au-delà - ces techniques bien que précises (<0,4 nm en 3 sigma) répondront difficilement aux besoins des procédés. D'autres techniques doivent être évaluées par simulations et expérimentalement pour arriver à des précisions inférieures. Le CD-SAXS et le CD-SEM sont les deux techniques qui seront évaluées pour cette métrologie ultime. Les justesses des techniques actuelles seront évaluées, le candidat définira de nouvelles méthodologies de mesure et nécessitera la création d'étalons de références inter-techniques. Ce sujet est dans la continuité de collaborations et programmes européens en cours.
