Impact de la topographie sur le revêtement par centrifugation en lithographie H/F

Job description: Rejoignez-nous en Stage !  CEA Tech Corporate from CEA Tech on Vimeo. En tant que stagiaire au CEA, vous aurez l'opportunité de travailler au sein d'un environnement de recherche de renommée mondiale. Nos équipes sont composées d'experts passionnés et dédiés, offrant un cadre propice à l'apprentissage et à la collaboration. Vous aurez accès à des équipements de pointe et à des ressources de recherche de premier ordre pour mener à bien vos missions.   Description du poste : Vous évoluerez au sein du service de patterning qui regroupe un ensemble de laboratoires en lien avec la salle blanche du LETI, laboratoires dont la mission commune est le transfert le plus exact possible des dessins des circuits de microélectronique dans les matériaux d'intérêt recouvrant les plaques de silicium. Plus précisément, vous intégrerez le laboratoire de patterning computationnel (LPAC) où vous mènerez vos travaux avec une équipe d'une vingtaine de personnes habituées à travailler en étroite collaboration. Ainsi vous serez amené à participer à des projets stimulants et innovants. Accompagné par des spécialistes de lithographie du laboratoire LLIT, de métrologie du laboratoire L2MD et du numérique de LPAC, votre rôle consistera à modéliser le revêtement par centrifugation d'un wafer présentant ou non une topographie à l'aide d'un outil numérique métier (Slitho) acquérir des données expérimentales  comparer les résultats numériques et expérimentaux afin de déterminer les conditions d'étalement optimales évaluer les atouts et les faiblesses de l'outil de modélisation  En fonction des attendus de votre école et de vos envies, certains aspects du sujet pourront être plus mis en avant. Pour aller plus loin :  Spin coating in semiconductor lithography: Advances in modeling and future prospects, Microelectronic Engineering, (vol 298, 06/2025) https://www.synopsys.com/manufacturing/mask-solutions/s-litho.html

Institute description: Le laboratoire de patterning computationnel a pour mission de développer ou de mettre en oeuvre des outils numériques permettant d'améliorer les performances des étapes de photolithographie, de gravure ou de métrologie. Par ces travaux en OPC, il permet de repousser vers de plus petites échelles les dimensions des circuits de microélectrique. Par ces travaux de métrologie, il permet d'augmenter le recueil d'information issue de l'imagerie CDSEM. Par ces travaux de modélisation, il participe entre autre à l'élaboration des empilements lithographiques… En nous rejoignant au LPAC, vous contribuerez au développement de la modélisation au service du patterning, modélisation indispensable à l'industrie française et européenne de demain.

Your profile: Qu’attendons-nous de vous ? Vous préparez un diplôme de niveau BAC+5  (école d'ingénieur ou Master 2) dans un des domaines de la physique au sens large, de la modélisation numérique ou des nanotechnologies. Vous êtes passionné par la recherche scientifique et technologique et êtes reconnu pour votre curiosité, votre persévérance et votre ouverture aux autres. Idéalement vous possédez des connaissances en mécanique des fluides, rhéologie, et/ou microélectronique.   Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !   Vous avez encore un doute ? Nous vous proposons : L'opportunité de travailler au sein d'une organisation de renommée mondiale dans le domaine de la recherche scientifique, Un environnement unique dédié à des projets ambitieux au profit des grands enjeux sociétaux actuels, Une expérience à la pointe de l’innovation, comportant un fort potentiel de développement industriel, Des moyens expérimentaux exceptionnels et un encadrement de qualité, De réelles opportunités de carrière à l’issue de votre stage Un poste au cœur de la métropole grenobloise, facilement accessible via la mobilité douce favorisée par le CEA, Une participation aux transports en commun à hauteur de 85%, Un équilibre vie privée – vie professionnelle reconnu, Un restaurant d'entreprise, Une politique diversité et inclusion, Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes handicapées, cet emploi est ouvert à toutes et à tous. Le CEA propose des aménagements et/ou des possibilités d'organisation pour l'inclusion des travailleurs handicapés.

Level of qualification studied: Bac+5 - Diplôme École d'ingénieurs

Languages: English Intermediate,French Intermediate